वसा में मौजूद ट्राइग्लिसराइड विशेष रूप से कम तापमान पर ठोस में परिवर्तित हो जाते हैं। यह उन्नत शीतलन तकनीक का उपयोग करके वसा के उभारों को लक्षित करता है और आसपास के ऊतकों को नुकसान पहुंचाए बिना एक क्रमिक प्रक्रिया के माध्यम से वसा कोशिकाओं को पिघलाकर अनावश्यक वसा को कम करता है। जब वसा कोशिकाएं सटीक शीतलन के संपर्क में आती हैं, तो वे प्राकृतिक रूप से हटने की प्रक्रिया शुरू कर देती हैं जिससे वसा की परत की मोटाई धीरे-धीरे कम हो जाती है। उपचारित क्षेत्र में वसा कोशिकाएं शरीर की सामान्य चयापचय प्रक्रिया के माध्यम से धीरे-धीरे घुल जाती हैं, जिससे अनावश्यक वसा पिघल जाती है।
| इनपुट | 220V/50Hz |
| शक्ति | 450VA |
| क्रायो तापमान | 5℃~-11℃ |
| गर्मी | 37℃- 45℃ |
| खाली | 10~80 किलोपा |
| हाथ टुकड़े | बड़े आकार का हैंडपीस: 200 मिमी |
| मध्यम आकार का हस्त यंत्र: 150 मिमी | |
| छोटे आकार का हस्त यंत्र: 100 मिमी | |
| डबल चिन हैंड पीस | |
| शीतलन तरल | शुद्ध पानी या विशेष शीतलक |
| फ्यूज | टी3.15AL250V |
| परिवेश का तापमान | 5℃~40℃ |
| सापेक्षिक आर्द्रता | ≤80% |
| वायु - दाब | 86 किलोपा~106 किलोपा |
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